溅射原子在基片外面堆积成膜。与蒸发镀膜分歧，溅射镀膜不受膜材熔点的限定,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物资。溅射化合物膜可用反响溅射法，行将反响气体份子束内涵法普遍用于制作各类光集成器件和各类超晶格布局薄膜。
(O、N、HS、CH等)参加Ar气中,反响气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反响天生化合物（如氧化物、氮化物等）而堆积在基片上。
镀膜工艺方面，工作可以选择什么方面的 光学薄膜企业里的镀膜工程师，负责工艺，膜系设计，都是比较稀缺的岗位，薪资待遇也好。导致沉积速度缓慢，每次进行镀膜的成本较高。然而，用于 ALD 的腔室通常相当大，可以在一次运行中覆盖许多光学元件。ALD 也与视线无关，这意味着它可以用来给光学元件涂上不寻常的几何图形，而这些几何图形很难通过其他方法涂上。
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